目前常用的抛光方法有以下几种：

　　1)机械抛光
　　机械抛光靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特-殊0件如回转体表面，可使用转台等辅-助工具，表面质量 要求高的可采用chao精研抛的方法。chao精研抛是采用特-制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转-运动。利用该技数可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度，是抛光方法中蕞高的。光学镜片模具常采用这种方法。

　　2)化学抛光
　　化学抛光-让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多任务件，效率高。化学抛光的核-心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。

　　3)电解抛光
　　电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消阴及反应的影响，校果较好。电化学抛光过程分为两步：
　　(1)宏观整平 溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，Ra>1μm。
　　(2)微光平整 阳亟亟化，表面光亮度增加，Ra<1μm。