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塑料模具抛光方法【1】
来源:[seo:selfurl]
发布时间:2019-11-11
目前常用的抛光方法有以下几种:
1)机械抛光
机械抛光靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,特-殊0件如回转体表面,可使用转台等辅-助工具,表面质量 要求高的可采用chao精研抛的方法。chao精研抛是采用特-制的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转-运动。利用该技数可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度,是抛光方法中蕞高的。光学镜片模具常采用这种方法。
2)化学抛光
化学抛光-让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解,从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备,可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多任务件,效率高。化学抛光的核-心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。
3)电解抛光
电解抛光基本原理与化学抛光相同,即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。与化学抛光相比,可以消阴及反应的影响,校果较好。电化学抛光过程分为两步:
(1)宏观整平 溶解产物向电解液中扩散,材料表面几何粗糙下降,Ra>1μm。
(2)微光平整 阳亟亟化,表面光亮度增加,Ra<1μm。
1)机械抛光
机械抛光靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,特-殊0件如回转体表面,可使用转台等辅-助工具,表面质量 要求高的可采用chao精研抛的方法。chao精研抛是采用特-制的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转-运动。利用该技数可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度,是抛光方法中蕞高的。光学镜片模具常采用这种方法。
2)化学抛光
化学抛光-让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解,从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备,可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多任务件,效率高。化学抛光的核-心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。
3)电解抛光
电解抛光基本原理与化学抛光相同,即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。与化学抛光相比,可以消阴及反应的影响,校果较好。电化学抛光过程分为两步:
(1)宏观整平 溶解产物向电解液中扩散,材料表面几何粗糙下降,Ra>1μm。
(2)微光平整 阳亟亟化,表面光亮度增加,Ra<1μm。
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